首页 / 产品与服务 / 三氟化氮
产品与服务
< >
产品分类:三氟化氮
名称/化学式:三氟化氮/NF3包装规格:44L、17L纯度(%)及杂质(ppm):99.99%
产品详情
三氟化氮(NF3)主要用途
是用作氟化氢-氟化气高能化学激光 器的氟源,在h2-O2与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所HF-OF激光器是化学激光 器中最有希望的激光 器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留残留物,同时也是非常良好的清洗剂。
用作高能燃料。
目前三氟化氮工业化生产
有两条路线,一是合成法:将氟化氢铵在镍制反应器中加热,氟气、氮气和氨通过分布器进入反应器直接氟化反应。二是电解法:在一定温度下,电解熔融的氟化氢铵,电解过程中阳极产生三氟化氮,阴极产生氢气。我国三氟化氮生产厂家的生产方法为上述两种方法。
产品名称:三氟化氮
产品类别:化工/气体